Applications des plasmas produits par le laser à excimères HERCULES-L : Du recuit du silicium à la lithographie par rayons X

S. Bollanti, F. Bonfigli, P. Di Lazzaro, A. Faenov, F. Flora, G. Giordano, T. Letardi, T. Limongi, L. Mezi, D. Murra, T. Pikuz, L. Palladino, A. Reale, L. Reale, A. Ritucci, A. Scafati, G. Tomassetti, A. Vitali, C.E. Zheng

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Original languageFrench
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JournalJournal De Physique. IV : JP
Volume11
Issue number7
Publication statusPublished - Oct 2001
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  • Physics and Astronomy(all)

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Bollanti, S., Bonfigli, F., Di Lazzaro, P., Faenov, A., Flora, F., Giordano, G., ... Zheng, C. E. (2001). Applications des plasmas produits par le laser à excimères HERCULES-L : Du recuit du silicium à la lithographie par rayons X. Journal De Physique. IV : JP, 11(7), -.